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BHF浓度计 CS-137
CS-137 高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的BHF 溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化,可用于监测硅氧化膜的蚀刻以及晶片表面的微粒清除作业时所使用的BHF 溶液(NH4F/HF/H2O)中的各成分浓度。
TMAH浓度计HE-960H-TM
概要
适用于显影液中TMAH的浓度管理HE-960TM可精确测量半导体和液晶生产中光阻显影药液制程中主要成份TMAH (四甲基氢氧化铵)的浓度。FES-510系列专用传感器具有宽泛的量程和高耐药性。4-极式炭质传感器具有显著的耐药性
特征
大量程适用
自动小数点位调整能够测量的TMAH量程从0.000至10.00%。
自动显示范围切换
从高至低浓度显示范围自动切换。当维持有效的电导率分辨率是也可使用该产监测变化
可测3种数值:TMAH浓度值、电导率计和温度
当基于相关温度特性数据补偿温度时测量TMAH浓度。本机也可用于测量其它化学药液的电导率。
耐药性4-极炭质传感器
采用了新型的使用高耐药性玻璃碳材料的FES-510系列4-极式流通型传.
4-通道传送输出
本机配有4个输出通道,所以可分别用于TMAH温度、电导率和温度。可从2个类型的输出电流中进行选择:4至20 mA DC, 或 0 至 20 mA DC.
低浓度HF/HCl/NH3 浓度计HF-96M
特征
精密测量低浓度HF。
测试HF浓度、HCl浓度、NH3浓度度、导电率和温度。
高速测试。
使用无铅焊料。
高感度HF浓度计 HF-700
概要
有效管理ppm level中稀释硫酸和双氧水的氢氟酸浓度。
ppm level的氢氟酸管理,对于稀硫酸的处理是非常重要的。蚀刻工业里,双氧水和少量的氢氟酸在清楚残留聚化物能发挥有效作用。如果浓度太低,就无法有效清楚残留物. 如果太高, 就会导致过度蚀刻。HF-700 在在稀硫酸和双氧水的ppm 命令中能稳定氢氟酸浓度,为的是进行连续测试和有效进程管理。
氢氟酸浓度计CM-200A/210A
概要
为监测半导体制造工艺中氢氟酸浓度而开发出来的高精度氢氟酸浓度计。该设备通过采用电磁感应导电率计测量并实时显示氢氟酸浓度。广泛适用于各个使用氢氟酸的制造工艺,例如:清洗蚀刻后的晶片。
特征
实时显示氢氟酸浓度
可以通过导电率传感器检测氢氟酸浓度,通过<导电率>-<氟酸浓度>的检量线,自动地实时显示氟酸浓度。
实现了半导体制造工艺中低浓度范围的高精度
产品几乎覆盖了半导体制造工艺中所使用的氢氟酸溶液的全部量程(0-1/2/5/10/20wt%)。即使在0-1wt%的低浓度量程中,也实现了±2%F.S.以内的再现精度。适合于要求低浓度范围控制的存储器生产线中发挥出威力。
碳质探头电阻率计 HE-960R-GC
概要
HE-960R-GC 使用的是玻璃碳质传感器。玻璃碳质传感器不会被金属洗脱所污染,而且对于例如氢氟酸和过氧化氢等湿法清洗药液具有很好的耐药性。其对单槽清洗系统的清洗制程中的电阻率测量具有高品质的表现。HE-960R-GC为无铅焊接的环境友好型产品。
特征
出众的耐药性
因为采用100%碳作为电极材料,HE-960R-GC传感器对于氢氟酸和过氧化氢等清洗药液表现出了出众的耐药性。传感器主体的材质为PFA和PVDF。
不受金属污染
使用 HE-960R-GC 是,无需为金属污染所担心。碳表面经过特别的处理,因此不易产生微粒脱落。
BHF浓度计 CS-137
概要
CS-137高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的BHF溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化,可用于监测硅氧化膜的蚀刻以及晶片表面的微粒清除作业时所使用的BHF溶液(NH4F/HF/H2O)中的各成分浓度。依据浓度计的输出而进行的反馈控制,可以确保BHF溶液的浓度保持在允许范围内,同时,还可以避免不必要的药液更换工作。
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